现行 SJ 20714-1998
砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法 砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法 Test method for sub-surface damage of gallium arsenide polished wafer by X-ray double crystal diffraction
发布日期：1998-03-18
实施日期：1998-05-01
分类信息
发布单位或类别： 中国 行业标准-电子
CCS分类： H83冶金 - 半金属与半导体材料 - 化合物半导体材料
ICS分类：
研制信息

起草单位： 电子工业部第四十六研究所

起草人： 张世敏、 郝建民、 段曙光

标准简介

本标准规定了砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法。 本标准适用于经过化学、机械单面和双面抛光的砷化镓晶片亚损伤层的定性测量

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衍射射线抛光损伤试验方法

最后更新时间 2025-08-30