现行 SJ 20744-1999
半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则 General rule of infrared absorption spectral analysis for the impurity concentration in semiconductor materials
发布日期：1999-11-10
实施日期：1999-12-01
分类信息
发布单位或类别： 中国 行业标准-电子
CCS分类： H80冶金 - 半金属与半导体材料 - 半金属与半导体材料综合、                                                                    
ICS分类：
研制信息

起草单位： 电子工业部第四十六研究所

起草人： 何秀坤、 汝琼娜、 李光平、 李静

标准简介

本标准规定了半导体材料中杂质含量的红外吸收分析方法的术语、基本原理、仪器设备、样品制备、测量条件、测量步骤和测量结果的计算。 本标准适用于在红外光谱区为透明的并在该区域产生杂质吸收带的任何半导体单晶材料红外分析方法

相似标准/计划/法规
杂质含量导则分析半导体材料

最后更新时间 2025-08-30