现行 GB/T 29505-2013
硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法 Test method for measuring surface roughness on planar surfaces of silicon wafer
发布日期：2013-05-09
实施日期：2014-02-01
分类信息
发布单位或类别： 中国 国家标准
CCS分类： H80冶金 - 半金属与半导体材料 - 半金属与半导体材料综合
ICS分类： 29.045电气工程 - 半导体材料
研制信息

归口单位： 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位： 有研半导体材料股份有限公司、 中国有色金属工业标准计量质量研究所

起草人： 孙燕、 李莉、 卢立延、 翟富义、 向磊

标准简介

本标准适用于平坦硅片表面的粗糙度测量；也可用于其他类型的平坦晶片材料，但不适用于晶片边缘区域的粗糙度测量

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最后更新时间 2025-09-06