归口单位: 全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2)
起草单位: 北京天科合达蓝光半导体有限公司、 中国科学院物理研究所
起草人: 陈小龙、 郑红军、 张玮、 郭钰、 刘春俊、 刘振洲
本标准规定了4H及6H碳化硅单晶抛光片的要求、检验方法、检查规则、标志、包装、运输、储存、质量证明书及订货单(或合同)内容。本标准适用于4H及6H碳化硅单晶研磨片经单面或双面抛光后制备的碳化硅单晶抛光片。产品主要用于制作半导体照明及电力电阻器件的外延衬底
最后更新时间 2025-09-06