归口单位: 全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
起草单位: 天通控股股份有限公司
起草人: 康森、 宋岩岩、 邵峰、 沈瞿欢、 於震杰
本标准规定了蓝宝石抛光衬底片表面深度为5nm以内的残留金属元素的全反射X光荧光光谱测试方法。本标准适用于蓝宝石抛光衬底片表面残留的、在元素周期表中11(Na)~92(U)号(除去铝和氧),且面密度在10^9 atoms/cm^2~10^15atoms/cm^2范围内元素的定量测量。其他用途蓝宝石抛光片表面残留金属元素的测量可参照本标准执行
最后更新时间 2025-09-06