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GB/T 45720-2025 标准详情

GB/T 45720-2025 现行
半导体器件 栅介质层的时间相关介电击穿（TDDB）试验
Semiconductor devices—Time dependent dielectric breakdown (TDDB) test for gate dielectric films

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标准状态

2025-05-30
2025-09-01

标准信息

工业和信息化部（电子）
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
工业和信息化部（电子）
该标准采用国际标准
L55
31.080.01
国家标准
现行
GB/T 45720-2025
半导体器件 栅介质层的时间相关介电击穿（TDDB）试验
Semiconductor devices—Time dependent dielectric breakdown (TDDB) test for gate dielectric films

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