T/CSTM 01199-2024 标准详情
T/CSTM 01199-2024
现行
多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱
Multilayer metal film-Measurement and analysis method of layer structure-X-ray photoelectron spectroscopy
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标准状态
标准信息
适用范围
本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。 本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征。
主要技术内容
本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征。
起草单位
季华实验室、中国科学院上海硅酸盐研究所、广东工业大学、中国计量科学研究院、宁波新材料测试评价中心有限公司、中材新材料研究院（广州）有限公司
起草人
范燕、卓尚军、严楷、王双、李林清、王海、杨秋，江柯敏、刘海全、谭晓逸、谭军、白敬胜
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