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YS/T 719-2009 标准详情

YS/T 719-2009 现行
平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

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标准状态

2009-12-04
2010-06-01

标准信息

工业和信息化部
全国有色金属标准化技术委员会
制定
H63
77.150.99
无
有色金属
行业标准
现行
YS/T 719-2009
平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

起草单位

利达光电股份有限公司

起草人

李智超、杨太礼 等

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