资源简介
摘要:本文件规定了低压化学气相淀积设备的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于低压化学气相淀积设备,用于在基片上沉积薄膜材料。
Title:General Technical Requirements for Low Pressure Chemical Vapor Deposition Equipment
中国标准分类号:M42
国际标准分类号:25.040.30
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拓展解读
在遵循SJT 10311-1992标准的前提下,通过深入分析低压化学气相淀积设备的核心业务环节,可以发现一些具有灵活性和优化潜力的实施路径。以下是10项具体建议:
采用多源气体供应系统
:通过引入多源气体供应方案,减少单一气体供应中断的风险,同时优化气体利用率,节约资源。灵活的材料选择
:在不影响性能的前提下,尝试使用性价比更高的替代材料,以降低制造成本。共享资源模式
:对于小型企业或实验室,可考虑与其他单位共享设备资源,降低固定资产投入。循环利用废气
:改进废气处理系统,回收利用部分未反应的气体,减少原材料浪费。