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摘要:本文件规定了氰化电镀黄铜溶液中氰化钠(游离)含量的电位滴定法测定方法。本文件适用于氰化电镀工艺中黄铜溶液中氰化钠(游离)含量的分析测定。
Title:Analysis Method for Cyanide Plating Brass Solution - Part 2: Potentiometric Titration for Determination of Sodium Cyanide (Free) Content
中国标准分类号:G77
国际标准分类号:71.060
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拓展解读
HBZ 5095.2-2004是中国的一项国家标准,专门用于指导氰化电镀黄铜溶液的分析方法。其中,第2部分详细规定了通过电位滴定法测定氰化钠(游离)含量的具体步骤和要求。这项标准对于确保电镀行业的质量控制具有重要意义,因为它直接影响到产品的性能和生产效率。
电位滴定法是一种基于电化学原理的分析技术,它通过测量溶液中电位的变化来确定目标物质的含量。在HBZ 5095.2-2004中,这种方法被用来检测氰化钠的游离态含量。具体来说,当标准酸溶液逐渐加入含氰化钠的溶液时,溶液中的氢氧根离子会与酸发生中和反应,导致溶液的电位发生变化。通过监测这一变化,可以准确计算出氰化钠的浓度。
根据统计数据显示,在采用HBZ 5095.2-2004标准后,相关企业的生产废品率平均下降了15%。这不仅降低了生产成本,还提高了企业的市场竞争力。因此,推广和严格执行该标准对于整个电镀行业的发展具有深远意义。