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摘要:本文件规定了电子级三甲基镓的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及质量证明书。本文件适用于以金属镓和甲基氯化物为原料制得的电子级三甲基镓,主要用于制造半导体材料和其他相关应用领域。
Title:Electronic Grade Trimethylgallium
中国标准分类号:H42
国际标准分类号:71.080.30
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拓展解读
GBT 37007-2018 是中国国家标准化管理委员会发布的关于电子级三甲基镓的标准文件。三甲基镓(Trimethylgallium, TMGa)是一种重要的金属有机化合物,在半导体制造领域具有广泛的应用。它作为金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺中的关键前驱体之一,用于制备高性能的III-V族化合物半导体材料,例如砷化镓(GaAs)和氮化镓(GaN)。这些材料是现代电子器件的核心组成部分,广泛应用于光电子、微波通信以及高速计算等领域。
GBT 37007-2018 对电子级三甲基镓的质量指标进行了严格规定,包括纯度、杂质含量、水分含量等。其中,纯度是衡量三甲基镓质量的关键指标,通常要求达到99.999%以上。此外,标准还对可能影响器件性能的杂质元素(如铁、铜、氧等)设定了严格的限量值,以确保其在半导体制造过程中的稳定性与可靠性。
电子级三甲基镓在半导体工业中扮演着不可或缺的角色。例如,在光通信领域,基于GaAs和GaN的激光器和探测器被广泛应用于光纤通信系统。据统计,全球超过60%的光通信设备依赖于基于MOCVD技术制造的III-V族半导体器件。
以某国际领先的半导体制造商为例,该公司采用符合GBT 37007-2018标准的三甲基镓生产高性能的GaAs HEMT(高电子迁移率晶体管),其产品广泛应用于5G基站和卫星通信系统。得益于高纯度的TMGa,该公司的器件表现出卓越的射频性能和低功耗特性,满足了现代通信网络对高效能器件的需求。
随着5G、人工智能和物联网技术的快速发展,对高性能半导体材料的需求将持续增长。未来,电子级三甲基镓的研发方向将集中在进一步提升纯度、降低杂质含量以及优化生产工艺上。同时,国内企业应积极对标国际先进标准,推动国产化替代进程,为我国半导体产业的发展提供坚实保障。