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摘要:本文件规定了200mm硅外延片的术语和定义、产品分类、技术要求、检验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于以硅为衬底,采用化学气相沉积法生长外延层的200mm硅外延片,主要用于半导体器件制造。
Title:Specification for 200mm silicon epitaxial wafers
中国标准分类号:H31
国际标准分类号:25.160.30
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拓展解读
GBT 35310-2017 是中国国家标准化管理委员会发布的一项关于200mm硅外延片的标准规范。这项标准为半导体行业提供了制造和检测200mm硅外延片的技术依据,确保了产品的质量和一致性。硅外延片作为半导体器件制造的重要基础材料,在集成电路、光电子器件等领域具有广泛应用。
什么是硅外延片?
硅外延片是在单晶硅基底上生长一层或多层具有特定厚度和掺杂浓度的硅薄膜。这层薄膜被称为外延层,其性能直接影响到后续器件的电学特性。200mm硅外延片是指以直径为200mm的单晶硅片为基础制成的外延片。
该标准详细规定了200mm硅外延片的分类、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输和贮存等内容。其中,技术要求包括外延层厚度、电阻率、表面质量等关键指标。例如,外延层的厚度偏差通常要求控制在±5%以内,电阻率需满足特定范围,表面颗粒数量不得超过一定限值。
200mm硅外延片广泛应用于现代半导体制造中。例如,在高性能计算芯片的生产中,高质量的外延层能够显著提升器件的运算速度和能效比。某知名半导体制造商曾采用符合GBT 35310-2017标准的200mm硅外延片,成功实现了百万级晶体管的稳定运行。
此外,随着物联网和人工智能的发展,对低功耗、高集成度芯片的需求日益增加,这也推动了硅外延片技术的进步。据统计,2022年全球200mm硅外延片市场规模达到数十亿美元,预计未来几年将以每年约8%的速度增长。
GBT 35310-2017 标准为中国半导体产业提供了重要的技术支持,确保了200mm硅外延片的质量和可靠性。通过严格的生产和检测流程,这一标准不仅满足了国内市场需求,还促进了国际竞争力的提升。未来,随着技术的不断进步,硅外延片将在更多高科技领域发挥重要作用。