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    GBT 29508-2013 300mm 硅单晶切割片和磨削片
    硅单晶切割片磨削片半导体材料加工技术
    14 浏览2025-06-09 更新pdf0.31MB 未评分
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    摘要:本文件规定了300mm硅单晶切割片和磨削片的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于以直拉法生长的300mm硅单晶为原料,经线切割或磨削加工制成的硅片,主要用于集成电路和其他半导体器件的制造。
    Title:Specification for 300mm silicon monocrystal slicing and grinding wafers
    中国标准分类号:H21
    国际标准分类号:25.160

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    GBT 29508-2013 300mm 硅单晶切割片和磨削片
  • 拓展解读

    GBT 29508-2013 300mm 硅单晶切割片和磨削片

    GBT 29508-2013 是一项关于 300mm 硅单晶切割片和磨削片的技术标准,旨在规范硅材料在半导体制造领域的应用。本标准对硅片的物理特性、化学成分以及加工工艺提出了明确要求,为半导体行业提供了重要的技术指导。

    硅单晶切割片的定义与用途

    硅单晶切割片是指通过精密切割工艺从大尺寸硅单晶棒上制备而成的薄片材料。这些切割片广泛应用于半导体器件的制造过程中,例如集成电路(IC)和功率电子元件。

    • 切割片的主要特点是高纯度和低缺陷密度。
    • 其表面平整度和厚度均匀性直接影响后续加工的质量。

    硅单晶磨削片的特点与优势

    硅单晶磨削片是在切割片的基础上进一步加工的产品,通常通过机械研磨或化学机械抛光(CMP)来改善表面质量。磨削片具有以下特点:

    • 表面粗糙度更低,适合高精度的应用场景。
    • 厚度公差更小,确保了器件的一致性和可靠性。
    • 通过磨削工艺可以有效去除切割过程中产生的微裂纹。

    GBT 29508-2013 的技术要求

    GBT 29508-2013 对硅单晶切割片和磨削片的技术指标进行了详细规定,主要包括以下几个方面:

    • 尺寸规格: 要求直径为 300mm,厚度公差控制在 ±50μm 内。
    • 表面质量: 切割片的表面粗糙度需低于 0.5μm,磨削片需低于 0.1μm。
    • 化学成分: 硅含量应达到 99.99% 以上,杂质元素如硼、磷等需严格控制。
    • 力学性能: 材料的硬度和韧性需满足特定的测试标准,以适应不同加工环境。

    结论

    GBT 29508-2013 标准为 300mm 硅单晶切割片和磨削片的生产提供了全面的技术指导,确保了产品质量的一致性和可靠性。随着半导体行业的快速发展,这项标准将在未来继续发挥重要作用,推动硅材料加工技术的进步。

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