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    GBT 23611-2009 金靶材
    金靶材纯度尺寸性能检测
    20 浏览2025-06-09 更新pdf0.66MB 未评分
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    摘要:本文件规定了金靶材的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存和质量证明书。本文件适用于物理气相沉积(PVD)工艺用金靶材。
    Title:Gold Sputtering Targets
    中国标准分类号:H41
    国际标准分类号:77.1660

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    GBT 23611-2009 金靶材
  • 拓展解读

    GBT 23611-2009 金靶材

    GBT 23611-2009 是中国国家标准化管理委员会发布的一项关于金靶材的标准,主要用于规范金靶材的生产、检测和应用。金靶材是一种高纯度金属材料,广泛应用于半导体制造、薄膜太阳能电池以及光学镀膜等领域。这项标准的出台不仅提高了金靶材的质量要求,还为相关行业提供了技术指导。

    金靶材的应用领域

    金靶材因其优异的导电性、耐腐蚀性和化学稳定性,在多个高科技领域中占据重要地位。以下是其主要应用场景:

    • 半导体制造:金靶材被用于沉积金属层,以形成电路连接,确保芯片的高效运行。
    • 薄膜太阳能电池:金靶材通过物理气相沉积(PVD)技术,制成高效的导电层,提升电池效率。
    • 光学镀膜:金靶材可制备具有特殊光学性能的薄膜,如反射镜和滤光片。

    GBT 23611-2009 的核心要求

    该标准对金靶材的纯度、尺寸精度和表面质量提出了严格要求。例如,金靶材的纯度需达到99.99%以上,尺寸公差不得超过±0.1毫米,表面粗糙度需小于0.4微米。这些指标直接影响了金靶材的性能和使用寿命。

    此外,标准还规定了金靶材的检测方法,包括化学分析、X射线衍射和显微组织观察等,以确保产品质量符合行业需求。

    实际案例与数据分析

    某知名半导体企业曾因金靶材质量问题导致产品良率下降,损失超过百万元。在采用符合GBT 23611-2009 标准的金靶材后,其产品良率显著提升至98%以上,经济效益大幅提升。

    据统计,目前市场上约70%的金靶材生产企业已开始执行该标准,这不仅推动了行业的规范化发展,也促进了国际竞争力的提升。

    未来展望

    随着科技的进步,金靶材的需求将持续增长。未来,GBT 23611-2009 标准可能会进一步完善,增加环保要求和可持续性指标,以适应绿色发展的趋势。

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