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    GBT 14140.2-1993 硅片直径测量方法 千分尺法
    硅片直径测量方法千分尺法半导体材料
    14 浏览2025-06-09 更新pdf0.24MB 未评分
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  • 资源简介

    摘要:本文件规定了用千分尺法测量硅片直径的方法。本文件适用于直径为25mm至300mm的圆形单晶硅片和多晶硅片的直径测量。
    Title:Silicon Wafer Diameter Measurement Method - Micrometer Method
    中国标准分类号:H61
    国际标准分类号:25.160.30

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    GBT 14140.2-1993 硅片直径测量方法  千分尺法
  • 拓展解读

    GBT 14140.2-1993主要内容

    GBT 14140.2-1993《硅片直径测量方法 千分尺法》规定了使用千分尺对硅片直径进行测量的具体方法和要求。该标准适用于半导体工业中硅片直径的精确测量。

    • 测量工具:采用精度较高的千分尺。
    • 测量位置:在硅片边缘的不同位置进行多次测量。
    • 数据处理:通过多次测量取平均值作为最终结果。
    • 环境要求:测量应在恒温、无振动的环境下进行。

    与老版本的变化

    与老版本相比,GBT 14140.2-1993在以下几个方面进行了改进:

    • 测量精度提升:新版本对千分尺的精度要求更高,确保测量结果更加准确。
    • 测量次数增加:增加了测量点的数量,以提高数据的可靠性。
    • 环境控制加强:明确提出了对测量环境的要求,避免外界干扰影响测量结果。
    • 操作步骤优化:简化了部分操作步骤,提高了测量效率。
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