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摘要:本文件规定了五氧化二铌靶材的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于以五氧化二铌为原料制备的溅射靶材,主要用于微电子、光电子等领域的薄膜制备。
Title:YST 826-2012 Niobium Pentoxide Sputtering Targets
中国标准分类号:H43
国际标准分类号:77.120.99
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拓展解读
YST 826-2012 是一项关于五氧化二铌靶材的标准规范,主要用于指导和规范五氧化二铌靶材的生产、检测及应用。五氧化二铌(Nb₂O₅)是一种重要的功能性材料,在电子工业、光学器件以及催化剂等领域有着广泛的应用。
五氧化二铌靶材以其高纯度、良好的导电性和化学稳定性著称。这些特性使其成为制造高性能薄膜的重要原材料。例如,在半导体行业中,五氧化二铌靶材被用于沉积具有特定功能的薄膜,以提高器件性能。此外,它还被应用于太阳能电池、平板显示器等现代科技领域。
五氧化二铌靶材的生产涉及复杂的工艺流程,包括原料的选择、提纯、成型及烧结等步骤。按照YST 826-2012的规定,生产过程中需要严格控制温度、压力等参数,以保证最终产品的质量。
某知名电子公司近年来采用符合YST 826-2012标准的五氧化二铌靶材,成功开发出新一代高效能太阳能电池。这种电池不仅提高了光电转换效率,还显著降低了生产成本。据统计,自采用该材料以来,该公司年产量提升了30%,市场竞争力大幅增强。
综上所述,YST 826-2012标准为五氧化二铌靶材的生产和应用提供了科学依据和技术支持,推动了相关行业的进步与发展。