资源简介
摘要:本文件规定了用堆垛层错尺寸法测定硅外延层厚度的方法和步骤。本文件适用于硅外延层厚度的测量,特别是在半导体材料领域的应用。
Title:Determination of Silicon Epitaxial Layer Thickness - Stacking Fault Dimension Method
中国标准分类号:H32
国际标准分类号:25.160
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拓展解读
在遵守YST 23-1992《硅外延层厚度测定.堆垛层错尺寸法》核心原则的基础上,通过优化流程和降低成本,可以实现更高的灵活性和效率。以下是10项可行的弹性方案。
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