归口单位: 工业和信息化部
本文件适用于以高纯钴、铬、铂、硼为原料,经真空熔铸或粉末冶金烧结等工艺制得的钴铬铂硼合金溅射靶材,产品主要用于机械硬盘磁存储介质的磁记录层材料
最后更新时间 2025-09-02