现行 SJ 20842-2002
砷化镓表面镓砷比的测试方法 砷化镓表面镓砷比的测试方法 Test method for Ga/As ratio of surface of gallium arsenide
发布日期：2002-10-30
实施日期：2003-03-01
分类信息
发布单位或类别： 中国 行业标准-电子
CCS分类： H83冶金 - 半金属与半导体材料 - 化合物半导体材料、                                                                       
ICS分类：
研制信息

起草单位： 信息产业部电子第四十六研究所

起草人： 任殿胜、 段曙光、 李雨辰、 严如岳

标准简介

木标准规定了砷化镓材料表面镓砷比的x射线光电子能谱的试验方法。 本标准适用于监测砷化镓器件制造过程中表面处理对砷化镓晶片表面镓砷比的影响，也适用于晶片加工中的各种表面处理

相似标准/计划/法规
SJ 20714-1998
砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法
Test method for sub-surface damage of gallium arsenide polished wafer by X-ray double crystal diffraction
1998-03-18
表面测试方法砷化镓

最后更新时间 2025-08-30