现行 GB/T 29658-2013
电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
发布日期:2013-09-06
实施日期:2014-05-01
分类信息
研制信息

归口单位: 全国有色金属标准化技术委员会

起草单位: 有研亿金新材料股份有限公司、 宁波江丰电子材料有限公司、 新疆众和股份有限公司

起草人: 万小勇、 罗俊锋、 廖赞、 尚再艳、 杨华、 朱晓光、 孙秀霖

标准简介

本标准规定了电子薄膜制备用高纯铝及铝合金靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、存贮、订货单(或合同)等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯铝及铝合金溅射靶材(以下简称铝靶)

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最后更新时间 2025-09-06