T/GVS 002-2021 标准详情
T/GVS 002-2021
现行
高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求
Generic specification for high precision magnetron sputtering coating plant
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标准状态
标准信息
主要技术内容
本文件规定了高精度磁控溅射镀膜设备的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于极限压力在10-5 Pa～10-3 Pa范围的高精度磁控溅射镀膜设备（以下简称“设备”）。
起草单位
中山凯旋真空科技股份有限公司、广东省中山市质量技术监督标准与编码所、华南理工大学、中山市博顿光电科技有限公司、中山火炬职业技术学院
起草人
李晓刚、聂鹏、叶俊文、吴标平、黎子辉、吴洽、冀鸣、石澎、黄志云、胡双丽、章艺锋、邓志雄
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