GB/T 14847-2010 标准详情

GB/T 14847-2010 现行

重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

Test mothod for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance

标准内容导航

发布日期2011-01-10

实施日期2011-10-01

批准发布部门国家标准委

发布部门中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

技术归口国家标准委

中国标准分类号H80

国际标准分类号29.045

标准层级国家标准

标准状态现行

标准号GB/T 14847-2010

标准名重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

标准英文名Test mothod for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance