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  • 晶体硅光伏电池用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备 第2部分:板式PECVD 设备 SJT 11829.2-2022

    晶体硅光伏电池用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备 第2部分:板式PECVD 设备 SJT 11829.2-2022
    晶体硅光伏电池等离子体增强化学气相淀积PECVD板式设备太阳能
    18 浏览2025-06-06 更新pdf6.47MB 未评分
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    摘要:本文件规定了晶体硅光伏电池用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备中板式PECVD设备的技术要求、测试方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于晶体硅光伏电池制造过程中使用的板式PECVD设备。
    Title:Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Equipment for Crystalline Silicon Photovoltaic Cells - Part 2: Plate-type PECVD Equipment
    中国标准分类号:L80
    国际标准分类号:27.160

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    晶体硅光伏电池用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备 第2部分:板式PECVD 设备 SJT 11829.2-2022
  • 拓展解读

    摘要

    本文围绕晶体硅光伏电池制造中广泛应用的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术展开讨论,重点聚焦于板式PECVD设备的技术标准——SJT 11829.2-2022。通过分析该标准的核心内容及其在实际应用中的意义,探讨了板式PECVD设备的设计原理、工艺特点以及未来发展趋势。

    引言

    随着全球对清洁能源需求的增长,光伏发电技术得到了迅速发展。作为光伏电池生产的关键环节之一,PECVD技术因其高效、环保的特点被广泛采用。特别是板式PECVD设备,凭借其结构紧凑、操作便捷的优势,在大规模工业化生产中占据重要地位。本标准的出台为板式PECVD设备的设计与制造提供了统一的技术规范,有助于提升产品质量和行业竞争力。

    板式PECVD设备概述

    板式PECVD设备是一种利用等离子体技术进行薄膜沉积的装置,主要用于在硅片表面沉积高质量的减反射膜或钝化膜。以下是该设备的主要组成部分:

    • 反应腔体:用于容纳反应气体并提供稳定的等离子体环境。
    • 射频电源:为等离子体提供能量来源。
    • 真空系统:确保设备内部处于高真空状态,以减少杂质污染。
    • 温度控制系统:精确控制沉积过程中的温度分布。

    SJT 11829.2-2022 标准解析

    SJT 11829.2-2022 标准详细规定了板式PECVD设备的技术要求、测试方法及验收规则。以下是该标准的一些关键点:

    • 技术要求:
      • 设备的结构设计应符合人体工程学原理,便于维护和操作。
      • 关键部件如射频电源和真空泵需满足特定性能指标。
    • 测试方法:
      • 通过模拟实际工况对设备进行全面测试。
      • 验证设备在不同工作条件下的稳定性和可靠性。
    • 验收规则:
      • 所有设备必须经过严格的质量检测才能投入使用。
      • 制造商需提供完整的技术文档和售后服务支持。

    结论

    板式PECVD设备作为光伏电池制造的重要工具,其标准化建设对于推动行业发展具有重要意义。SJT 11829.2-2022 标准不仅规范了设备的技术参数,还为企业提供了明确的指导方针。未来,随着新材料和新技术的应用,板式PECVD设备有望进一步优化性能,满足更高效率和更低能耗的需求。

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