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    SJ 20515-1995 金电镀层薄层电阻测试方法
    金电镀层薄层电阻测试方法电性能质量控制
    21 浏览2025-06-07 更新pdf0.21MB 未评分
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    摘要:本文件规定了金电镀层薄层电阻的测试方法,包括测试原理、仪器设备、操作步骤和结果计算。本文件适用于电子元器件、集成电路引线框架及其他需要测量金电镀层薄层电阻的产品。
    Title:Test Method for Thin Film Resistance of Gold Plating Layer
    中国标准分类号:L80
    国际标准分类号:25.220.40

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    SJ 20515-1995 金电镀层薄层电阻测试方法
  • 拓展解读

    主要内容

    SJ 20515-1995《金电镀层薄层电阻测试方法》规定了用于测量金电镀层薄层电阻的具体方法和步骤。该标准适用于各种金属材料表面的金电镀层,旨在确保测试结果的准确性和一致性。

    对比与老版本的变化

    • 测试原理更新:新版本引入了更先进的测试原理,提高了测量的精确度。
    • 设备要求:对测试设备提出了更高的精度要求,并推荐使用新型仪器以减少误差。
    • 操作步骤优化:简化了一些复杂的操作步骤,同时增加了详细的说明,便于实际操作。
    • 数据处理方式:改进了数据处理方法,增加了统计分析的内容,使结果更具参考价值。
    • 适用范围扩展:扩大了适用范围,涵盖了更多类型的金电镀层材料。
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