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摘要:本文件规定了基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法的术语和定义、测量原理、测量设备要求、测量步骤、数据处理及测量结果的不确定度评定。本文件适用于采用光学干涉法对MEMS微结构面内长度进行高精度测量。
Title:Microelectromechanical systems (MEMS) technology - Method for in-plane length measurement of MEMS microstructures based on optical interference
中国标准分类号:O4
国际标准分类号:17.060
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拓展解读
微机电系统(Micro-Electro-Mechanical Systems,简称MEMS)是现代科技的重要组成部分,它将微型机械结构与电子电路集成在同一芯片上,广泛应用于传感器、执行器和通信设备等领域。为了确保MEMS器件的质量和性能,精确测量其微结构尺寸显得尤为重要。在此背景下,中国国家标准《GBT 34893-2017》提出了基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法。
光学干涉技术是一种高精度的测量手段,它利用光波的干涉现象来检测微小的位移变化。根据GBT 34893-2017的规定,这种测量方法通过将激光束分成两部分,一部分直接照射到MEMS微结构表面,另一部分作为参考光,两者经过不同路径后重新汇合形成干涉条纹。通过对干涉条纹的分析,可以精确计算出微结构的面内长度。
在某知名半导体公司的MEMS传感器生产线中,工程师们采用了基于光学干涉的测量方法对微镜阵列的面内长度进行了精确测量。这些微镜用于光学信号的调制和切换,在医疗成像和通信领域具有广泛应用。通过GBT 34893-2017标准的指导,该公司成功实现了微镜阵列长度误差控制在±50纳米以内,显著提高了产品的良品率和市场竞争力。
随着MEMS技术的不断发展,对测量精度的要求也在不断提高。未来,基于光学干涉的测量方法可能会结合人工智能算法,进一步提升自动化水平和数据分析能力。此外,新的光源技术和探测器设计也将为该领域的研究带来更多的可能性。
总之,GBT 34893-2017标准为MEMS微结构的面内长度测量提供了科学规范的方法,推动了相关产业的技术进步和质量提升。