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资源简介
摘要：本文件规定了硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定的技术要求、试验步骤和结果计算。本文件适用于硅片表面元素含量的定量分析，尤其适用于超痕量元素的检测。
Title：Surface chemical analysis - Chemical collection method for surface elements of silicon wafer working standard samples and determination by total reflection X-ray fluorescence spectrometry (TXRF)
中国标准分类号：J74
国际标准分类号：71.040.50 -
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拓展解读
GBT 30701-2014主要内容
GBT 30701-2014《表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定》规定了用于硅片表面元素分析的工作标准样品制备及检测方法。该标准主要包括以下几个方面：
- 样品制备：详细描述了硅片表面元素的化学收集方法，包括样品清洗、表面处理等步骤。
- 测量技术：介绍了全反射X射线荧光光谱法（TXRF）的基本原理及其在硅片表面元素测定中的应用。
- 数据处理：提供了数据校正和结果计算的具体流程，确保测量结果的准确性。
与老版本的变化
相比老版本，GBT 30701-2014在以下方面进行了更新和改进：
- 更精确的样品制备：引入了新的化学收集技术，提高了表面元素提取的效率和精度。
- 优化的测量方法：对TXRF的测量条件进行了调整，增强了对低浓度元素的检测能力。
- 标准化的数据处理：增加了更多校正因子，减少了测量误差，提高了结果的可靠性。
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GBT 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
21 浏览2025-06-09 更新pdf0.54MB
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