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摘要:本文件规定了300mm硅单晶抛光片的产品分类、技术要求、检验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于以直拉法生长的300mm硅单晶为原料,经切割、研磨、抛光等工艺制成的抛光片,主要用作生产半导体器件和集成电路的衬底材料。
Title:Specification for 300mm silicon single crystal polished wafers
中国标准分类号:H22
国际标准分类号:25.160.30
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拓展解读
以下是关于 GBT 29506-2013 标准下 300mm 硅单晶抛光片的一些常见问题及其解答。
GBT 29506-2013 是中国国家标准化管理委员会发布的标准,用于规范 300mm 硅单晶抛光片的技术要求、测试方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等内容。该标准适用于半导体器件制造中使用的硅单晶抛光片。
300mm 硅单晶抛光片主要用于半导体集成电路(IC)芯片的制造。它们是半导体工业的核心材料,广泛应用于计算机、通信设备、消费电子等领域。
300mm 的硅片尺寸比传统的 200mm 硅片具有更高的生产效率和更低的成本。更大的面积可以容纳更多的芯片,从而提高晶圆厂的产量。
质量检测需要通过专业的测试仪器进行,包括但不限于:电阻率测试仪、表面形貌仪、颗粒计数器 和 X 射线荧光光谱仪 等。这些设备能够准确测量硅片的各项参数,确保其符合标准要求。
硅单晶抛光片应储存在干燥、无尘的环境中,避免阳光直射和化学腐蚀。通常建议温度控制在 15℃~25℃,相对湿度低于 50%。
翘曲度直接影响后续的光刻和蚀刻工艺精度。如果翘曲度过大,可能导致芯片制造过程中出现对准误差或裂纹,从而降低成品率。
GBT 29506-2013 标准参考了国际上相关的半导体材料标准,如 SEMI M1 和 ASTM F121。尽管具体内容可能略有差异,但总体目标一致,即确保硅单晶抛光片的质量满足半导体工业的需求。