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    GBT 29506-2013 300mm 硅单晶抛光片
    硅单晶抛光片半导体材料晶体质量几何尺寸
    17 浏览2025-06-09 更新pdf0.33MB 未评分
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    摘要:本文件规定了300mm硅单晶抛光片的产品分类、技术要求、检验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于以直拉法生长的300mm硅单晶为原料,经切割、研磨、抛光等工艺制成的抛光片,主要用作生产半导体器件和集成电路的衬底材料。
    Title:Specification for 300mm silicon single crystal polished wafers
    中国标准分类号:H22
    国际标准分类号:25.160.30

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    GBT 29506-2013 300mm 硅单晶抛光片
  • 拓展解读

    GBT 29506-2013 300mm 硅单晶抛光片常见问题解答

    以下是关于 GBT 29506-2013 标准下 300mm 硅单晶抛光片的一些常见问题及其解答。

    1. 什么是 GBT 29506-2013 标准?

    GBT 29506-2013 是中国国家标准化管理委员会发布的标准,用于规范 300mm 硅单晶抛光片的技术要求、测试方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等内容。该标准适用于半导体器件制造中使用的硅单晶抛光片。

    2. 300mm 硅单晶抛光片的主要用途是什么?

    300mm 硅单晶抛光片主要用于半导体集成电路(IC)芯片的制造。它们是半导体工业的核心材料,广泛应用于计算机、通信设备、消费电子等领域。

    3. GBT 29506-2013 标准中对硅单晶抛光片的关键技术指标有哪些?

    • 电阻率: 表示硅材料的导电性能,通常以 Ω·cm 为单位。
    • 表面粗糙度: 抛光后表面的平整程度,通常用 Ra 值表示。
    • 颗粒污染: 单晶片上的微小颗粒数量,直接影响芯片良品率。
    • 翘曲度: 硅片在平坦化处理后的变形程度。
    • 氧含量和碳含量: 这些杂质会影响硅片的电学性能。

    4. 为什么选择 300mm 的尺寸?

    300mm 的硅片尺寸比传统的 200mm 硅片具有更高的生产效率和更低的成本。更大的面积可以容纳更多的芯片,从而提高晶圆厂的产量。

    5. 如何判断硅单晶抛光片的质量是否符合 GBT 29506-2013 标准?

    质量检测需要通过专业的测试仪器进行,包括但不限于:电阻率测试仪、表面形貌仪、颗粒计数器 和 X 射线荧光光谱仪 等。这些设备能够准确测量硅片的各项参数,确保其符合标准要求。

    6. 300mm 硅单晶抛光片的存储条件是什么?

    硅单晶抛光片应储存在干燥、无尘的环境中,避免阳光直射和化学腐蚀。通常建议温度控制在 15℃~25℃,相对湿度低于 50%。

    7. 什么是“颗粒污染”?它对硅片的影响是什么?

    • 颗粒污染: 指硅片表面或内部存在的微小颗粒物。
    • 影响: 颗粒污染会导致芯片短路或失效,因此需要严格控制颗粒的数量和大小。

    8. 为什么硅片的翘曲度很重要?

    翘曲度直接影响后续的光刻和蚀刻工艺精度。如果翘曲度过大,可能导致芯片制造过程中出现对准误差或裂纹,从而降低成品率。

    9. GBT 29506-2013 标准与国际标准有何关系?

    GBT 29506-2013 标准参考了国际上相关的半导体材料标准,如 SEMI M1 和 ASTM F121。尽管具体内容可能略有差异,但总体目标一致,即确保硅单晶抛光片的质量满足半导体工业的需求。

    10. 如何延长硅单晶抛光片的使用寿命?

    • 正确存储和搬运,避免物理损伤。
    • 定期清洁表面,防止颗粒污染积累。
    • 遵循制造商的使用说明,避免超负荷操作。
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