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摘要:本文件规定了硅片切口尺寸的测试方法,包括测量原理、设备要求、操作步骤和结果计算。本文件适用于单晶硅片和多晶硅片切口尺寸的测量。
Title:Test Method for Kerf Width of Silicon Wafers
中国标准分类号:L80
国际标准分类号:25.160
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拓展解读
GBT 26067-2010 是一项关于硅片切口尺寸测试的重要国家标准,以下是针对该标准的常见问题解答。
GBT 26067-2010 规定了用于半导体工业的硅片切口尺寸的测量方法。它适用于直径为50mm至300mm的单晶硅片和多晶硅片,主要用于检测硅片切口的几何尺寸是否符合设计要求。
切口尺寸测试的主要目的是确保硅片切口的几何形状和尺寸满足特定工艺需求,从而保证硅片在后续加工中的定位准确性和一致性。这直接影响到半导体器件的制造质量和性能。
根据 GBT 26067-2010 的规定,应在硅片切口的多个关键位置进行测量,包括切口的宽度、深度、角度等参数。通常建议在切口的两端及中间位置分别测量,以确保数据的代表性。
测量结果需与设计图纸或技术规范中的公差范围进行对比。如果所有测量值均在允许的公差范围内,则判定为合格;否则视为不合格。具体公差范围应参考相关产品标准或客户要求。
GBT 26067-2010 主要针对硅片切口尺寸的测试,虽然部分原理可能适用于其他材料,但其具体参数和公差范围不适用于非硅基材料。因此,对于其他材料的切口测试,需参照相应标准执行。
截至最新信息,GBT 26067-2010 尚未被修订或替代。但在实际应用中,建议关注相关标准化机构发布的最新动态,以确保使用最新的有效版本。
当出现测量结果争议时,双方应共同选定第三方权威机构进行复测。复测结果将作为最终判定依据。同时,双方需保留完整的测量记录和过程文件,以便追溯和验证。