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摘要:本文件规定了氧化铟锡(ITO)靶材的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于以溅射法沉积透明导电膜用的氧化铟锡靶材。
Title:Indium Tin Oxide (ITO) Targets
中国标准分类号:H43
国际标准分类号:25.160
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拓展解读
GBT 20510-2017 氧化铟锡(Indium Tin Oxide, ITO)靶材是中国国家标准化管理委员会于2017年发布的标准,主要用于规范氧化铟锡靶材的生产、检测和应用。氧化铟锡靶材是一种重要的电子材料,广泛应用于液晶显示器(LCD)、有机发光二极管(OLED)、薄膜太阳能电池等领域。这种材料因其高导电性和透明性,在现代科技中扮演着不可或缺的角色。
氧化铟锡靶材的核心特性在于其独特的光电性能。它能够同时提供良好的导电性和透明性,这使得它成为制造透明电极的理想选择。在实际应用中,ITO靶材被用来制作触摸屏、平板显示面板以及光伏器件中的电极层。这些器件的性能在很大程度上依赖于ITO靶材的质量。
ITO靶材的生产过程涉及多个关键步骤,包括原料的选择、混合、烧结和加工。原材料通常为高纯度的氧化铟和氧化锡,它们需要经过精确配比以确保最终产品的性能。在烧结阶段,高温处理是必不可少的,它决定了靶材的致密性和均匀性。
GBT 20510-2017标准对这些环节提出了严格的要求,确保每一批ITO靶材都能满足行业需求。
ITO靶材的主要应用领域包括:
例如,京东方科技集团是一家全球领先的LCD和OLED面板制造商,其产品广泛采用符合GBT 20510-2017标准的ITO靶材,以确保产品的高质量和高性能。
综上所述,GBT 20510-2017标准不仅规范了ITO靶材的生产流程,还推动了相关行业的技术进步。随着科技的不断发展,ITO靶材将在更多领域展现其重要价值。