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  • SJT 31121-1994 JB-VⅡ型掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法

    SJT 31121-1994 JB-VⅡ型掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法
    掩膜对准曝光机完好要求检查评定方法半导体设备光刻技术
    18 浏览2025-06-09 更新pdf0.1MB 未评分
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  • 资源简介

    摘要:本文件规定了JB-VⅡ型掩膜对准曝光机的完好要求及其检查评定方法。本文件适用于JB-VⅡ型掩膜对准曝光机的维护、检修和性能评估。
    Title:Requirements and Inspection Evaluation Methods for JB-VⅡ Type Mask Alignment Exposure Machine
    中国标准分类号:M51
    国际标准分类号:25.140

  • 封面预览

    SJT 31121-1994 JB-VⅡ型掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法
  • 拓展解读

    主要内容总结

    SJT 31121-1994 JB-VⅡ型掩膜对准曝光机的完好要求和检查评定方法主要规定了设备在使用、维护和检查过程中的技术标准和评定方法。以下是主要内容:

    • 设备完好性要求:包括机械部件、光学系统、电气控制系统的完好状态。
    • 检查评定方法:详细描述了如何通过目测、仪器检测等方式评估设备是否符合标准。
    • 维护保养建议:提出了定期维护的具体内容和周期,以确保设备长期稳定运行。

    与老版本的变化对比

    相比老版本,SJT 31121-1994在以下几个方面进行了更新和改进:

    • 更严格的机械部件要求:增加了对某些关键部件耐磨性和精度的要求。
    • 新增光学系统检测项目:引入了新的光学参数检测方法,提高了对成像质量的评估标准。
    • 优化电气控制系统:强化了对电路安全性和抗干扰能力的测试要求。
    • 更加详细的维护指南:提供了更具体的维护步骤和时间表,便于操作人员执行。
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