• 首页
  • 查标准
  • 下载
  • 专题
  • 标签
  • 首页
  • 标准
  • 制造
  • SJT 31116-1994 PLA-501F型光刻机完好要求和检查评定方法

    SJT 31116-1994 PLA-501F型光刻机完好要求和检查评定方法
    光刻机PLA-501F型完好要求检查方法评定标准
    15 浏览2025-06-09 更新pdf0.06MB 未评分
    加入收藏
    立即下载
  • 资源简介

    摘要:本文件规定了PLA-501F型光刻机的完好要求及其检查和评定方法。本文件适用于PLA-501F型光刻机的维护、检测及性能评估。
    Title:SJT 31116-1994 Specifications and Inspection Evaluation Methods for the Integrity of PLA-501F Photolithography Machine
    中国标准分类号:M72
    国际标准分类号:25.140

  • 封面预览

    SJT 31116-1994 PLA-501F型光刻机完好要求和检查评定方法
  • 拓展解读

    主要内容总结

    SJT 31116-1994《PLA-501F型光刻机完好要求和检查评定方法》主要规定了PLA-501F型光刻机在技术状态完好性方面的具体要求以及相应的检查评定方法。该标准适用于对PLA-501F型光刻机的技术状态进行检查、评定和验收。

    • 完好要求:明确了光刻机的机械部分、电气系统、光学系统等各组成部分的具体完好标准。
    • 检查评定方法:详细描述了如何通过目测、仪器检测等方式对光刻机的各项性能指标进行检查,并给出了评定合格与否的标准。

    与老版本的变化对比

    与老版本相比,SJT 31116-1994在以下几个方面进行了更新和完善:

    • 新增内容:增加了对新型材料和新技术应用的相关要求,例如更严格的光学元件清洁标准及更高精度的机械部件公差要求。
    • 改进检查方法:引入了更多现代化检测工具和技术手段,提高了检查效率和准确性。
    • 强化安全规范:加强了操作人员安全防护措施的要求,在检查过程中特别强调了避免设备损坏和个人伤害的重要性。
    • 优化评定流程:简化了一些复杂繁琐的操作步骤,同时细化了某些关键参数的评判细则,使得整个评定过程更加科学合理。
  • 下载说明

    预览图若存在模糊、缺失、乱码、空白等现象,仅为图片呈现问题,不影响文档的下载及阅读体验。

    当文档总页数显著少于常规篇幅时,建议审慎下载。

    资源简介仅为单方陈述,其信息维度可能存在局限,供参考时需结合实际情况综合研判。

    如遇下载中断、文件损坏或链接失效,可提交错误报告,客服将予以及时处理。

  • 相关资源
    下一篇 SJT 31118-1994 RS-H80H型外圆 磨机完好要求和检查评定方法

    SJT 31119-1994 掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法

    SJT 31121-1994 JB-VⅡ型掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法

    SJT 31122-1994 四探针测试仪完好要求和检查评定方法

    SJT 31120-1994 KSM-MJB3型掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法

资源简介
封面预览
拓展解读
下载说明
相关资源
  • 帮助中心
  • 网站地图
  • 联系我们
2024-2025 WenDangJia.com 浙ICP备2024137650号-1