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  • SJT 31120-1994 KSM-MJB3型掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法

    SJT 31120-1994 KSM-MJB3型掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法
    掩膜对准曝光机完好要求检查评定方法KSM-MJB3型半导体设备
    13 浏览2025-06-09 更新pdf0.09MB 未评分
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  • 资源简介

    摘要:本文件规定了KSM-MJB3型掩膜对准曝光机的完好要求及其检查评定方法,包括设备的技术状态、性能指标、安全要求及维护保养规范。本文件适用于KSM-MJB3型掩膜对准曝光机的验收、使用、维护和管理。
    Title:Requirements and Inspection Evaluation Methods for KSM-MJB3 Mask Aligner Exposure Machine in Good Condition
    中国标准分类号:M62
    国际标准分类号:25.140

  • 封面预览

    SJT 31120-1994 KSM-MJB3型掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法
  • 拓展解读

    主要内容

    SJT 31120-1994《KSM-MJB3型掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法》规定了KSM-MJB3型掩膜对准曝光机的完好标准及检查评定的具体方法。该标准适用于该型号设备的日常维护、定期检查以及性能评估。

    • 完好要求:
      • 机械部分:设备的运动部件应灵活无卡滞,紧固件不得松动。
      • 光学系统:光源亮度稳定,光路清晰无污染。
      • 电气系统:电路连接可靠,控制面板功能正常。
      • 安全措施:设备的安全防护装置完整有效。
    • 检查评定方法:
      • 目视检查:观察设备外观是否完好。
      • 功能性测试:通过实际操作验证各项功能是否符合要求。
      • 记录保存:将检查结果详细记录并归档。

    与老版本的变化

    相比老版本,SJT 31120-1994在以下几个方面进行了更新和改进:

    • 新增了对设备光学系统的具体要求,强调了光路清洁的重要性。
    • 细化了电气系统检查的内容,增加了电路绝缘性的检测项目。
    • 优化了检查评定流程,引入了更科学的功能性测试方法。
    • 强化了安全措施的评估标准,确保设备运行过程中的安全性。
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