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  • YST 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

    YST 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
    高纯金属溅射靶材电子薄膜纯度等级杂质含量
    12 浏览2025-06-10 更新pdf0.11MB 未评分
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  • 资源简介

    摘要:本文件规定了电子薄膜用高纯金属溅射靶材的纯度等级及杂质含量的分析和报告方法。本文件适用于电子薄膜制造过程中使用的高纯金属溅射靶材的质量控制和检测。
    Title:Guidelines for Purity Grades and Impurity Content Analysis and Reporting of High-Purity Metal Sputtering Targets for Electronic Films
    中国标准分类号:H41
    国际标准分类号:25.160

  • 封面预览

    YST 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
  • 拓展解读

    弹性方案优化建议

    在遵循“YST 935-2013”标准核心原则的基础上,通过深入分析核心业务环节,以下为10项可灵活执行、优化流程并降低成本的弹性方案:

    • 样品预处理优化: 引入自动化样品前处理设备,减少人工操作误差,同时提升效率。
    • 多元素联合检测: 利用ICP-MS技术一次性检测多种杂质元素,避免多次测试带来的重复成本。
    • 数据共享平台建设: 建立行业内数据共享机制,利用历史数据分析杂质分布规律,降低测试频率。
    • 分级检测策略: 根据靶材用途设定不同检测精度要求,对非关键指标适当放宽检测频次。
    • 外包合作模式: 对于部分非核心检测项目,选择专业第三方机构合作,集中资源专注核心检测任务。
    • 在线监测系统引入: 在生产线上安装实时监测装置,及时发现异常情况,减少最终检测压力。
    • 质量控制点调整: 将部分质量控制点从成品阶段提前至半成品阶段,缩短检测周期。
    • 培训与标准化流程: 定期对检测人员进行培训,确保操作规范性和一致性,减少因人为因素导致的返工。
    • 灵活采购策略: 根据实际需求动态调整试剂和耗材采购量,避免库存积压或短缺问题。
    • 信息化管理工具: 应用ERP系统整合检测数据与生产信息,实现全流程数字化管理,提高决策效率。
  • 下载说明

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