资源简介
摘要:本文件规定了电子薄膜用高纯金属溅射靶材的纯度等级及杂质含量的分析和报告方法。本文件适用于电子薄膜制造过程中使用的高纯金属溅射靶材的质量控制和检测。
Title:Guidelines for Purity Grades and Impurity Content Analysis and Reporting of High-Purity Metal Sputtering Targets for Electronic Films
中国标准分类号:H41
国际标准分类号:25.160
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拓展解读
在遵循“YST 935-2013”标准核心原则的基础上,通过深入分析核心业务环节,以下为10项可灵活执行、优化流程并降低成本的弹性方案: