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摘要:本文件规定了氧化镓单晶片X射线双晶摇摆曲线半高宽的测试方法,包括设备要求、样品制备、测试步骤和结果计算。本文件适用于氧化镓单晶片质量评估及相关性能分析。
Title:Test Method for Half-Width of X-ray Double Crystal Rocking Curve of Gallium Oxide Single Crystal Wafer
中国标准分类号:L80
国际标准分类号:19.060
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拓展解读
本文将聚焦于TZSA 231-2024标准中关于氧化镓单晶片X射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法的一项重要改进——引入了更精确的角度校准步骤,并结合实际应用详细解读其操作流程与意义。
在旧版标准中,对于角度校准仅提出了粗略的要求,而在新版标准中明确规定了使用高精度角度计对测试设备进行校准的具体参数和频率。这一变化旨在减少因设备误差带来的测量偏差,提高数据可靠性。
具体而言,在执行X射线双晶摇摆曲线测试前,需按照以下步骤完成角度校准:
1. 准备一块已知晶面取向且具有稳定晶体结构的标准样品;
2. 将该标准样品固定于测试台上,调整至理论上的最佳入射角度;
3. 利用高精度角度计反复测定并记录至少三次的数据;
4. 计算平均值作为校准参考点;
5. 根据计算结果调整测试设备的角度设置,确保其与实际测量条件一致。
这项改进的意义在于,通过严格规范角度校准过程,可以有效避免由于仪器自身问题导致的测试误差积累,从而获得更加准确可靠的半高宽值。这对于评估氧化镓单晶材料的质量以及指导后续加工工艺具有至关重要的作用。
总之,新版标准中的这一改动体现了对实验细节的关注和对科学严谨性的追求,有助于提升整个行业的技术水平和产品质量。