DB44/T 530-2008 标准详情
DB44/T 530-2008
现行
南珠抛光技术规范
标准内容导航
标准状态
标准信息
适用范围
本标准规定了南珠抛光加工中的定义、仪器设备、抛光材料、生产环境和工艺过程。 本标准适用于南珠抛光。
起草单位
广东海洋大学
起草人
邓陈茂、童银洪、黄海立、符韶、谢仁政、梁飞龙、刘永、周银环
相似标准推荐
团体标准
T/NXCL 016-2022
现行
200 mm重掺锑直拉硅单晶抛光片
200 mm heavily antimony-doped single crystaline Czochralski silicon polished wafer
国家标准
GB/T 19921-2018
现行
硅抛光片表面颗粒测试方法
Test method for particles on polished silicon wafer surfaces
国家标准
GB/T 12964-2018
现行
硅单晶抛光片
Monocrystalline silicon polished wafers
国家标准
GB/T 26065-2010
现行
硅单晶抛光试验片规范
Specification for polished test silicon wafers
国家标准
GB/T 4058-2009
现行
硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
行业标准
JC/T 970.2-2018
现行
陶瓷瓷质砖抛光技术装备 第2部分：磨边倒角机
团体标准
T/FSCS 001-2022
现行
陶瓷抛光企业清洁生产评价指标体系
Assessment indicator frame of cleaner production for ceramic polishing enterprise
国家标准
GB/T 29506-2013
现行
300mm 硅单晶抛光片
300mm polished monocrystalline silicon wafers
行业标准
YS/T 25-1992
现行
硅抛光片表面清洗方法
国家标准
GB/T 30712-2014
现行
抛光钻石质量测量允差的规定
Provision of permissible errors for measurement of polished diamond mass
行业标准
YS/T 873-2013
现行
铝合金抛光膜层规范
行业标准
HG/T 2571-2006
现行
抛光膏
团体标准
T/FSCPLC 01-2022
现行
陶瓷抛光企业清洁生产评价指标体系
Assessment indicator frame of cleaner production for ceramic polishing enterprise
行业标准
HG/T 4079-2009
现行
金属抛光表面质量检测及评判规则
团体标准
T/NXCL 017-2022
现行
300 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片
300 mm heavily phosphorus-doped single crystaline Czochralski silicon polished wafers
团体标准
T/ZZB 0648-2018
现行
200 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片
200 mm heavily phosphorus-doped single crystalline Czochralski silicon polished wafers
地方标准
DB46/T 131-2008
现行
抗风浪深水网箱养殖技术规程
下载电子版
正在请求下载信息...