T/ZZB 2833-2022 标准详情

T/ZZB 2833-2022 现行
高压MOSFET用200 mm硅外延片
200 mm silicon epitaxial wafers for high voltage MOSFET

标准内容导航

标准状态

2022-12-08
2022-12-31

标准信息

浙江省品牌建设联合会
H82
29.045
C398 电子元件及电子专用材料制造
tbQbw86
现行
T/ZZB 2833-2022
高压MOSFET用200 mm硅外延片
200 mm silicon epitaxial wafers for high voltage MOSFET

主要技术内容

本文件规定了高压MOSFET用200 mm硅外延片(以下简称硅外延片)的术语和定义、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、 质量证明书、 运输和贮存及质量承诺。本文件适用于直径为200 mm、外延层厚度为40 μm~80 μm、在n型重掺砷硅抛光片上生长n型掺磷外延层、晶向的硅外延片。产品主要用于制作高压金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET) 器件(简称高压MOSFET) 。

起草单位

浙江金瑞泓科技股份有限公司、金瑞泓科技(衢州)有限公司

起草人

许峰、李慎重、李刚、刘红方、朱华英、李方虎、李艳玲

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