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摘要:本文件规定了砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法的技术要求、试验步骤和结果评定。本文件适用于砷化镓抛光片的质量检测和性能评估。
Title:Test Method for Sub-Damage Layer of Polished Gallium Arsenide Wafers by X-ray Double Crystal Diffraction
中国标准分类号:L80
国际标准分类号:31.120
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拓展解读
SJ 20714-1998 砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法
SJ 20714-1998是中国国家标准化管理委员会发布的一项国家标准,用于指导砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法。该标准旨在通过X射线双晶衍射技术检测砷化镓材料中的亚损伤层厚度及质量。
砷化镓抛光片在半导体制造中具有重要应用,但其表面可能因加工或环境因素产生亚损伤层。X射线双晶衍射试验能够无损地检测亚损伤层的厚度和质量,为材料的质量评估提供科学依据。
X射线双晶衍射利用两块晶体之间的精确对准,使入射X射线经过多次衍射后形成特定的干涉图样。通过对这些图样的分析,可以定量测量亚损伤层的厚度和材料内部应力分布。
SJ 20714-1998标准主要适用于砷化镓(GaAs)抛光片的亚损伤层检测。此外,该方法也可推广至其他类似半导体材料,如硅(Si)等。
根据SJ 20714-1998标准,亚损伤层的厚度通常需小于某一限定值(具体数值需参考标准文件)。若厚度超过限定值,则认为材料不合格。
样品需满足以下条件:
选择X射线波长时需考虑样品的晶格常数和衍射角度。通常,波长较短的X射线更适合检测较薄的亚损伤层,而较长波长则适用于较厚的损伤层。
试验结果通常以衍射峰强度或半高宽的形式呈现。强度越高,说明亚损伤层越薄;半高宽越大,则表明损伤层较厚或存在更多缺陷。
相比国际标准(如ISO相关标准),SJ 20714-1998更注重与中国半导体产业的实际需求相结合,提供了更适合国内企业的操作细节和技术参数。
可通过使用已知厚度的标样进行校准,确保设备输出的数据与实际值一致。此外,定期维护和校准设备也是保证测试准确性的关键。
该试验方法是无损检测技术,不会对样品造成任何物理或化学损害,因此适合用于高价值半导体材料的检测。