资源简介
摘要:本文件规定了砷化镓用高纯镓中铜、锰、镁、钒、钛等12种杂质的等离子体光谱分析方法。本文件适用于高纯镓材料的质量控制和检测。
Title:Specification for Plasma Spectroscopy Analysis of 12 Impurities including Copper, Manganese, Magnesium, Vanadium, and Titanium in High Purity Gallium for Gallium Arsenide
中国标准分类号:H63
国际标准分类号:77.040.30
封面预览
拓展解读
以下是关于“SJ 20713-1998 砷化镓用高纯镓中铜、锰、镁、钒、钛等12种杂质的等离子体光谱分析法”的常见问题解答。
回答: SJ 20713-1998 是一项中国国家标准,主要用于指导砷化镓用高纯镓中铜、锰、镁、钒、钛等12种杂质的等离子体光谱分析方法。该标准为半导体材料的质量控制提供了科学依据,确保高纯镓在半导体制造中的性能稳定性和可靠性。
回答: 等离子体光谱分析法利用电感耦合等离子体(ICP)作为激发源,将样品原子化并激发至高能态,随后释放特征光谱。通过检测这些光谱的强度,可以定量分析样品中各种元素的含量。这种方法具有灵敏度高、选择性好、线性范围宽等特点。
回答: SJ 20713-1998 标准中规定了对高纯镓中12种杂质元素的分析,主要包括铜(Cu)、锰(Mn)、镁(Mg)、钒(V)、钛(Ti)以及其他关键杂质元素。这些杂质对砷化镓器件的性能有重要影响。
回答: 样品制备是分析的关键步骤。需要确保样品均匀性良好,避免污染。通常采用酸溶解法或机械研磨法处理样品,然后稀释至适当浓度后进行分析。具体操作需严格按照标准中的要求执行。
回答: 高纯镓是制造砷化镓半导体的重要原材料,其纯度直接影响半导体器件的性能。杂质含量过高会导致器件漏电流增加、耐压能力下降等问题,从而影响器件的可靠性和使用寿命。
回答: 与传统的化学分析方法相比,等离子体光谱分析法具有以下优势:
回答: 为了验证分析结果的准确性,可以采取以下措施:
回答: 测量误差可能来源于多个方面,包括样品制备不当、仪器漂移、试剂纯度不足等。为避免误差,应注意以下几点:
回答: SJ 20713-1998 主要针对砷化镓用高纯镓的杂质分析,但其分析原理和技术方法也可用于其他类似材料的杂质检测,例如高纯铝、高纯锌等。不过,具体应用时需根据材料特性调整参数。
回答: 如果不具备等离子体光谱仪,可以考虑使用其他分析方法,如原子吸收光谱法(AAS)、X射线荧光光谱法(XRF)等。但这些方法各有优缺点,在选择时需综合考虑成本、精度和适用范围。