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摘要:本文件规定了硅片弯曲度的测试方法,包括测量原理、设备要求、操作步骤和结果计算。本文件适用于单晶硅片和多晶硅片的弯曲度测量。
Title:Test Method for Silicon Wafer Bow - GBT 6619-2009
中国标准分类号:L80
国际标准分类号:25.160
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拓展解读
GBT 6619-2009 是关于硅片弯曲度测试方法的标准,用于评估硅片在制造和使用过程中的弯曲程度。该标准详细规定了测试的原理、设备要求、操作步骤以及结果计算方法。