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    SJT 11275-2002 卧式液相外延系统通用规范
    卧式液相外延系统通用规范半导体设备外延技术制造工艺
    14 浏览2025-06-09 更新pdf0.18MB 未评分
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    摘要:本文件规定了卧式液相外延系统的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于卧式液相外延系统的生产、检验和使用。
    Title:General Specifications for Horizontal Liquid Phase Epitaxy System
    中国标准分类号:M52
    国际标准分类号:25.160

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    SJT 11275-2002 卧式液相外延系统通用规范
  • 拓展解读

    引言

    SJT 11275-2002《卧式液相外延系统通用规范》是中国在半导体材料制备领域的一项重要标准。该标准为卧式液相外延系统的研发、生产和应用提供了统一的技术要求和质量保证依据。本文将从技术背景、系统构成、性能指标以及应用前景四个方面对这一标准进行深入分析。

    技术背景

    卧式液相外延(LPE)技术是一种用于生长高质量半导体单晶薄膜的关键工艺。与气相外延(CVD)等其他方法相比,液相外延具有成本低、操作简单、适应性强等优点,广泛应用于太阳能电池、LED照明及微电子器件等领域。SJT 11275-2002 的制定旨在规范卧式液相外延系统的制造流程,确保其满足工业生产的需求。

    系统构成

    根据 SJT 11275-2002 的规定,卧式液相外延系统主要由以下几个部分组成:

    • 加热装置:提供精确的温度控制,以确保溶液的均匀性。
    • 晶体生长室:用于容纳待生长的基片和熔融溶液。
    • 搅拌系统:通过机械或电磁方式实现溶液的均匀混合。
    • 冷却系统:快速降低温度,以固定外延层结构。
    • 控制系统:集成了数据采集、过程监控和故障报警功能。

    性能指标

    SJT 11275-2002 对卧式液相外延系统的性能提出了严格的要求,主要包括以下几点:

    • 温度精度:系统需能够将温度控制在 ±0.5°C 范围内。
    • 溶液均匀性:溶液的浓度偏差不得超过 1%。
    • 外延层厚度:厚度误差应小于 5%。
    • 表面质量:外延层表面不得存在明显的缺陷或裂纹。

    应用前景

    随着半导体行业的快速发展,卧式液相外延技术的应用范围不断扩大。SJT 11275-2002 的实施不仅提高了设备的一致性和可靠性,还推动了相关产业的技术进步。未来,随着新材料和新工艺的引入,卧式液相外延系统有望在更广泛的领域中发挥作用,例如量子计算、新型显示技术和柔性电子器件。

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