《YS/T 985-2014 硅抛光回收片》标准查询解读、电子版标准下载

YS/T 985-2014 现行
硅抛光回收片

《YS/T 985-2014 硅抛光回收片》标准内容导航

标准状态

2014-10-14
2015-04-01

标准信息

工业和信息化部
全国有色金属标准化技术委员会
制定
H80
有色金属
行业标准
现行
YS/T 985-2014
硅抛光回收片

起草单位

浙江金瑞泓科技股份有限公司、有研半导体材料股份有限公司等

起草人

何良恩、刘丹 等

相似标准推荐

团体标准
T/FSCS 001-2022 现行
陶瓷抛光企业清洁生产评价指标体系
Assessment indicator frame of cleaner production for ceramic polishing enterprise
发布日期2022-12-27
实施日期2022-12-28
CCS分类CCS Z 00
ICS分类13.020.01 环境和环境保护综合
国家标准
GB/T 26065-2010 现行
硅单晶抛光试验片规范
Specification for polished test silicon wafers
发布日期2011-01-10
实施日期2011-10-01
CCS分类H80
ICS分类29.045
国家标准
GB/T 29506-2013 现行
300mm 硅单晶抛光片
300mm polished monocrystalline silicon wafers
发布日期2013-05-09
实施日期2014-02-01
CCS分类H82
ICS分类29.045
行业标准
JC/T 970.2-2018 现行
陶瓷瓷质砖抛光技术装备 第2部分:磨边倒角机
发布日期2018-10-22
实施日期2019-04-01
CCS分类Q94
ICS分类91.110
团体标准
T/NXCL 016-2022 现行
200 mm重掺锑直拉硅单晶抛光片
200 mm heavily antimony-doped single crystaline Czochralski silicon polished wafer
发布日期2022-12-02
实施日期2022-12-02
CCS分类
ICS分类29.045
团体标准
T/ZZB 0648-2018 现行
200 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片
200 mm heavily phosphorus-doped single crystalline Czochralski silicon polished wafers
发布日期2018-10-19
实施日期2018-11-01
CCS分类H82
ICS分类29.045
行业标准
YS/T 873-2013 现行
铝合金抛光膜层规范
发布日期2013-04-25
实施日期2013-09-01
CCS分类H60
ICS分类25.220.01
行业标准
HG/T 2571-2006 现行
抛光膏
发布日期2006-07-26
实施日期2007-03-01
CCS分类G14
ICS分类71.060.99
国家标准
GB/T 12964-2018 现行
硅单晶抛光片
Monocrystalline silicon polished wafers
发布日期2018-09-17
实施日期2019-06-01
CCS分类H82
ICS分类29.045
国家标准
GB/T 19921-2018 现行
硅抛光片表面颗粒测试方法
Test method for particles on polished silicon wafer surfaces
发布日期2018-12-28
实施日期2019-07-01
CCS分类H21
ICS分类77.040
团体标准
T/FSCPLC 01-2022 现行
陶瓷抛光企业清洁生产评价指标体系
Assessment indicator frame of cleaner production for ceramic polishing enterprise
发布日期2022-12-27
实施日期2022-12-28
CCS分类CCS Z 00
ICS分类13.020.01 环境和环境保护综合
行业标准
HG/T 4079-2009 现行
金属抛光表面质量检测及评判规则
发布日期2009-02-05
实施日期2009-07-01
CCS分类G90
ICS分类71.120.01
国家标准
GB/T 4058-2009 现行
硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
发布日期2009-10-30
实施日期2010-06-01
CCS分类H80
ICS分类29.045
国家标准
GB/T 30712-2014 现行
抛光钻石质量测量允差的规定
Provision of permissible errors for measurement of polished diamond mass
发布日期2014-03-27
实施日期2014-10-01
CCS分类D59
ICS分类39.060
行业标准
YS/T 25-1992 现行
硅抛光片表面清洗方法
发布日期1992-03-09
实施日期1993-01-01
CCS分类
ICS分类
团体标准
T/NXCL 017-2022 现行
300 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片
300 mm heavily phosphorus-doped single crystaline Czochralski silicon polished wafers
发布日期2022-12-02
实施日期2022-12-02
CCS分类
ICS分类29.045
地方标准
DB44/T 530-2008 废止
南珠抛光技术规范
发布日期2008-07-11
实施日期2008-10-01
CCS分类B51
ICS分类39.060
行业标准
YS/T 1046.2-2015 现行
铜渣精矿化学分析方法 第2部分:金量和银量的测定 原子吸收光谱法和火试金重量法
发布日期2015-04-30
实施日期2015-10-01
CCS分类H13
ICS分类77.120.60