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摘要:本文件规定了电子薄膜用高纯铜溅射靶材的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于电子薄膜制备过程中使用的高纯铜溅射靶材。
Title:Technical Requirements for High-Purity Copper Sputtering Targets Used in Electronic Films
中国标准分类号:H65
国际标准分类号:77.120.99
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拓展解读
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