T/ZJCX 0049-2024 标准详情
T/ZJCX 0049-2024
现行
碳化硅衬底激光剥离设备
Laser slicing equipment for SiC substrate
标准内容导航
标准状态
标准信息
主要技术内容
本文件规定了碳化硅衬底激光剥离设备的术语和定义、工作条件、技术要求、试验方法、检验规则、标志、标签、包装、运输和贮存。本文件适用于碳化硅衬底激光剥离设备的生产和检验。
起草单位
西湖仪器（杭州）技术有限公司、西湖大学、西湖大学光电研究院、北京天科合达半导体股份有限公司、山西烁科晶体有限公司、浙江材孜科技有限公司、河北同光半导体股份有限公司
起草人
仇旻、刘东立、俞小英、朱佳凯、刘峰江、陈文轩、刘春俊、魏汝省、王明华、崔景光
相似标准推荐
国家标准
GB/T 30855-2014
现行
LED外延芯片用磷化镓衬底
GaP substrates for LED epitaxial chips
T/ZZB 2332-2021
现行
发光二极管用蓝宝石衬底抛光片
Polished sapphire substrate for LED
T/CASAS 025-2023
现行
8英寸碳化硅衬底片基准标记及尺寸
8-inch silicon carbide wafer reference marking and dimensions
国家标准
GB/T 37053-2018
现行
氮化镓外延片及衬底片通用规范
General specification for epitaxial wafers and substrates based on gallium nitride
行业标准
YS/T 839-2012
现行
硅衬底上绝缘体薄膜厚度及折射率的椭圆偏振测试方法
国家标准
GB/T 41751-2022
现行
氮化镓单晶衬底片晶面曲率半径测试方法
Test method for radius of curvature of crystal plane in GaN single crystal substrate wafers
国家标准
GB/T 30861-2014
现行
太阳能电池用锗衬底片
Germanium substrate for solar cell
行业标准
SJ/T 11869-2022
现行
硅衬底白光功率发光二极管芯片详细规范
行业标准
SJ/T 11867-2022
现行
硅衬底蓝光小功率发光二极管详细规范
国家标准
GB/T 31353-2014
现行
蓝宝石衬底片弯曲度测试方法
Test methods for bow of sapphire substrates
国家标准
GB/T 30858-2014
现行
蓝宝石单晶衬底抛光片
Polished mono-crystalline sapphire substrate product
地方标准
DB32/T 4378-2022
现行
衬底表面纳米、亚微米尺度薄膜 方块电阻的无损测试 四探针法
T/CASAS 014-2021
现行
碳化硅衬底基平面弯曲的测定 高分辨X射线衍射法
Measuring method for basal plane bending of SiC substrate — High resolution X-ray diffractometry
国家标准
GB/T 32188-2015
现行
氮化镓单晶衬底片x射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法
The method for full width at half maximum of double crystal X-ray rocking curve of GaN single crystal substrate
国家标准
GB/T 32189-2015
现行
氮化镓单晶衬底表面粗糙度的原子力显微镜检验法
Test method for surface roughness of GaN single crystal substrate by atomic force microscope
行业标准
SJ/T 11868-2022
现行
硅衬底蓝光功率发光二极管芯片详细规范
国家标准
GB/T 24580-2009
现行
重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
Test method for measuring boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
国家标准
GB/T 30856-2025
现行
LED外延芯片用砷化镓衬底
GaAs substrates for LED epitaxial chips
国家标准
GB/T 36705-2018
现行
氮化镓衬底片载流子浓度的测试 拉曼光谱法
Test method for carrier concentration of gallium nitride substrates—Raman spectrum method
国家标准
GB/T 24576-2009
现行
高分辩率X射线衍射测量GaAs衬底生长的AlGaAs中Al成分的试验方法
Test method for measuring the Al fraction in AlGaAs on GaAs substrates by high resolution X-ray diffraction
国家标准
GB/T 47089-2026
即将实施
蓝宝石图形化衬底表面图形几何参数的测定方法
Test method for determining geometrical parameters of patterns on patterned sapphire substrate
行业标准
SJ/T 11865-2022
现行
功率器件用φ150mm n型碳化硅衬底
国家标准
GB/T 43662-2024
现行
蓝宝石图形化衬底片
Patterned sapphire substrate
行业标准
SJ/T 11864-2022
现行
半绝缘型碳化硅单晶衬底
T/GRM 093-2024
现行
汞工业污染地块植物与微生物协同修复技术指南
Guidelines for Synergistic Remediation Techniques of Plants and Microorganisms in Mercury industrial contamination site
下载电子版
正在请求下载信息...