GB/T 25188-2010 标准详情

GB/T 25188-2010 现行

硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy

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发布日期2010-09-26

实施日期2011-08-01

批准发布部门中国科学院

发布部门中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

技术归口中国科学院

中国标准分类号G04

国际标准分类号71.040.40

标准层级国家标准

标准状态现行

标准号GB/T 25188-2010

标准名硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

标准英文名Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy