文档家
Plus
能源
电工
通信
建筑
农林
搜索
首页
›
冶金
›
GB/T 19922-2005
GB/T 19922-2005 标准详情
GB/T 19922-2005
现行
硅片局部平整度非接触式标准测试方法
Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
标准内容导航
标准信息
相似标准
标准状态
发布日期
2005-09-19
实施日期
2006-04-01
标准信息
批准发布部门
工业和信息化部(电子)
发布部门
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
技术归口
工业和信息化部(电子)
中国标准分类号
H17
国际标准分类号
77.040.01
标准层级
国家标准
标准状态
现行
标准号
GB/T 19922-2005
标准名
硅片局部平整度非接触式标准测试方法
标准英文名
Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
相似标准推荐
国家标准
GB/T 6621-2009
现行
硅片表面平整度测试方法
Testing methods for surface flatness of silicon slices
发布日期
2009-10-30
实施日期
2010-06-01
CCS分类
H80
ICS分类
29.045
国家标准
GB/T 26067-2010
现行
硅片切口尺寸测试方法
Standard test method for dimensions of notches on silicon wafers
发布日期
2011-01-10
实施日期
2011-10-01
CCS分类
H80
ICS分类
29.045
国家标准
GB/T 4799-2011
现行
激光器型号命名方法
The type designation for lasers
发布日期
2011-12-30
实施日期
2012-07-01
CCS分类
L51
ICS分类
31.260
下载电子版
下载电子版
正在请求下载信息...
微信支付
微信支付
支付宝
立即下载
取消