外延
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YS/T 1745-2025 分子束外延（MBE）用高纯铝源
外延
分子
MBE
882浏览行业标准-有色金属H61冶金 - 有色金属及其合金产品 - 轻金属及其合金
DL/T 2310-2021 电力系统高压功率器件用碳化硅外延片使用条件
电力系统
碳化硅
外延
582浏览行业标准-电力H83冶金 - 半金属与半导体材料 - 化合物半导体材料
SJ 21633-2021 碳化硅外延材料少子寿命的激光微波光电导衰减测试方法
少子
电导
碳化硅
853浏览行业标准-电子L10电子元器件与信息技术 - 电子元件 - 电子元件综合
SJ 21629-2021 碳化硅(SiC)外延生长设备工艺验证方法
碳化硅
外延
生长
736浏览行业标准-电子L95电子元器件与信息技术 - 电子工业生产设备 - 电子工业生产设备综合
SJ 20514A-2018 微波功率晶体管用硅外延片规范
外延
晶体
微波
718浏览行业标准-电子H82冶金 - 半金属与半导体材料 - 元素半导体材料
SJ 21536-2018 微波功率器件及集成电路用砷化镓外延片规范
集成电路
外延
微波
631浏览行业标准-电子H83冶金 - 半金属与半导体材料 - 化合物半导体材料
SJ 21534-2018 微波功率器件用氮化镓外延片规范
氮化
外延
微波
753浏览行业标准-电子H83冶金 - 半金属与半导体材料 - 化合物半导体材料
SJ 21535-2018 电力电子器件用碳化硅外延片规范
碳化硅
外延
器件
823浏览行业标准-电子H83冶金 - 半金属与半导体材料 - 化合物半导体材料
SJ 21493-2018 碳化硅外延片表面缺陷测试方法
碳化硅
外延
缺陷
638浏览行业标准-电子H83冶金 - 半金属与半导体材料 - 化合物半导体材料
YS/T 23-2016 硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法
堆垛
外延
测定
858浏览行业标准-有色金属H21冶金 - 金属理化性能试验方法 - 金属物理性能试验方法
YS/T 24-2016 外延钉缺陷的检验方法
外延
缺陷
检验方法
928浏览行业标准-有色金属H21冶金 - 金属理化性能试验方法 - 金属物理性能试验方法
YS/T 1060-2015 硅外延用三氯氢硅中其他氯硅烷含量的测定 气相色谱法
外延
测定
含量
518浏览行业标准-有色金属H17冶金 - 金属化学分析方法 - 半金属及半导体材料分析方法
YS/T 15-2015 硅外延层和扩散层厚度测定磨角染色法
外延
染色
测定
519浏览行业标准-有色金属H21冶金 - 金属理化性能试验方法 - 金属物理性能试验方法
YS/T 1059-2015 硅外延用三氯氢硅中总碳的测定 气相色谱法
外延
测定
气相
822浏览行业标准-有色金属H17冶金 - 金属化学分析方法 - 半金属及半导体材料分析方法
YS/T 14-2015 异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法
多晶
外延
厚度
840浏览行业标准-有色金属H21冶金 - 金属理化性能试验方法 - 金属物理性能试验方法